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成都電鍍鉻廠

產品名稱: 成都電鍍鉻廠
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成都電鍍鉻廠|成都電鍍鉻加工|成都電鍍鉻
成都電鍍鉻廠介紹鍍鉻工藝

產品描述

成都電鍍鉻廠|成都電鍍鉻加工|成都電鍍鉻

  成都電鍍鉻廠介紹鍍鉻工藝
  1、 性能和用途 因為鉻表面易於鈍化,有很強的耐蝕性,所以用於裝飾電鍍的*外層,其厚度一般只有0.5-1微米,通常稱之為裝飾鉻。 成都電鍍鉻的另一個特點是具有極高的硬度,HV=750-1000,因而又經常用於有耐磨要求的場合,通常稱之為硬鉻。
  2. 電鍍鉻基本原理
  2.1 電鍍鉻的陰極過程 第*階段,隨著電極電位上升,電流密度上升。電極反應為 2H+ ---> H2 第二階段,隨著電極電位繼續上升,電流密度轉為下降。這是一個形成陰極膜的過程。 第三階段,隨著電極電位繼續上升,電流密度又轉為上升。電極反應為 Cr6+ ---> Cr 2H+ ---> H2 Cr6+ ---> Cr3+ (H2的還原作用)
  2.2 陰極膜的形成 在鍍鉻層沈積之前,陰極上先生成一層薄膜。觀察薄膜的試驗如圖2所示。陰極為針狀。停電後1秒可以觀察到陰極膜(厚度約0.1微米),停電3-4秒後陰極膜就消失了。
  2.3 流酸的作用和影響 鍍液中利於流酸含量的增加,陰極膜的厚度也隨之增加。電極周圍的成分與其它部分的成分差別較大,為 Cr6+ 65-67% Cr3+ 22-23% SO42- 10-12% CrO3與H2SO4形成[(CrOn2-)m·(SO42-)n]復雜的絡合物。隨鍍液中流酸濃度增加,電流效率形成有峰值的情況。圖4中線段1,電流效率隨流酸含量上升而上升,是因為絡合物含量上升的緣故;繼續增加流酸的含量,則陰極膜厚度增加,阻礙鉻層的沈積,電流效率隨流酸含量上升而下降。
  2.4 Cr3+的影響 當鍍液中Cr3+的含量上升時,圖4中的曲線向右上方向移動。當 H2SO4=10-12g/l,Cr3+=20g/l,電流密度60-100A/dm2時,電流效率高於25%。可獲得鏡面光亮的鍍鉻層。缺點是分散能力差,只適合旋轉體。
  2.5 H2的析出影響 常規鍍鉻中,只有12-15%的電流用於沈積鉻層,80-85%的電流用於析出氫氣。氫氣會滲入鉻層,也會滲入基體達幾十微米。氫氣的滲入,使得鋼的疲勞強度下降約30-40%。有趣的是,高強度零件鍍鉻後,疲勞強度下降,而強度低的零件,鍍鉻後疲勞強度反而提高。
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